Products
진공 챔버 플랜지
반도체 공정 챔버용 고진공 플랜지. 초정밀 평면도와 무결점 표면을 보증합니다.
Semiconductor
Vacuum Flange
진공 챔버 플랜지
DS-VF 시리즈
반도체 공정 챔버용 고진공 플랜지. 초정밀 평면도와 무결점 표면을 보증합니다.
주요 특징
- 평면도 5㎛ 이내
- 전해연마(EP)로 파티클 최소화
- 헬륨 리크 테스트 1×10⁻⁹ 보증
적용 분야
- CVD·식각 장비 챔버
- 진공 이송 모듈
- 디스플레이 증착 장비
Specification
제품 사양
| 재질 | STS316L, AL6061 |
|---|---|
| 규격 | ICF·ISO-K·KF |
| 평면도 | 5㎛ 이하 |
| 리크율 | 1×10⁻⁹ Pa·m³/s 이하 |
| 세정 | 클래스 1000 클린룸 세정·포장 |
※ 표기된 사양은 대표 규격입니다. 고객 도면에 따라 맞춤 생산이 가능합니다.
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